IKN提供轉(zhuǎn)子-定子機(jī)械裝置來確保最終的分散效果、良好的清潔度和較長運(yùn)行壽命。憑借這幾項(xiàng)特點(diǎn)和易維護(hù)設(shè)計(jì)，轉(zhuǎn)子-定子機(jī)械裝置實(shí)現(xiàn)滿意的成績及售價(jià)比。

微米納米級高速均質(zhì)機(jī)

ERX4000系列是一種在線式四級超高剪切超高速分散機(jī)，以達(dá)到超細(xì)的乳液和懸浮液。極高的剪切速率（高達(dá)410.000 1/S）與分散頭的精密幾何結(jié)構(gòu)相結(jié)合能使液滴和固體顆粒粉碎到納米級。由此產(chǎn)生的物料，具有長期的穩(wěn)定性。從而減少了對乳化劑和增稠劑的需要。由于極高的能量密度，就能減少使用或甚至不需要使用其他的分散助劑。

MP系列適用于需要在真空狀態(tài)下乳化攪拌的產(chǎn)品?？膳渲酶呒羟腥榛瘷C(jī)使用，該設(shè)備的核心是依肯EBI2000系列，該系列設(shè)備直接和預(yù)混罐安裝在一起，有2級設(shè)計(jì)，擁有更多的功能和靈活性。適合分散、乳化、均質(zhì)、攪拌混合等工藝過程。能夠確保產(chǎn)品的最終質(zhì)量，并且極大縮短生產(chǎn)時(shí)間。

三級錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款膠體磨比普通的膠體磨的速度達(dá)到到4-5倍以上，研磨效果好，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到到14000RPM，可以達(dá)到到更好的分散濕磨效果。

依肯獨(dú)特的創(chuàng)新，MO2000系列錐體磨（膠體磨），它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新，CMO2000系列錐體磨（膠體磨）能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小，錐體磨（膠體磨）的研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求

CMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，形成的摩擦力比較劇烈，就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

圓椎形定轉(zhuǎn)子,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。